桂林931高溫鎳添加劑

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★TF-831特點

TF-831適用于連接器等電子系列產品零部件鍍錫（亮錫或啞錫）后需經高溫回流焊的錫底層電鍍層。符合美國聯邦QQN-290 2級規格。

其特點如下：

1、適用于氨基磺酸鎳、硫酸鎳制程，單一開缸，單一添加，添加劑不會有失調現象。

2、添加劑內應力極低，增加焊性，鍍錫層抗高溫性能優異。

3、鍍層均一性良好,添加劑的使用范圍寬：4-40ml/L.

4、電流效率高。

5、操作電流密度范圍廣；添加劑開缸濃度范圍和使用范圍非常廣泛，鍍液非常好管理。

6、電解消耗量少，可以得到安定的鍍層析出。

7、特別是用于硫酸鎳瓦特液鍍高溫鎳，本添加劑的優越性是其他國內外高溫鎳添加劑無法比擬的.

★操作條件

★ 開缸方法

1、先將槽子洗凈，注入40%（體積比）之純水。

2、加入硼酸，加熱溶解52~60℃。

3、攪拌，加入所需之氯化鎳。

4、持續攪拌，加入所需之氨基磺酸鎳。

5、依序加入添加劑TF-831.

6、確認溫度及PH值，加入純水所需液面后，即可使用。（若PH值太低則以碳酸鎳調整，若太高則以氨基磺酸調整之）。

★ 操作流程

脫脂→活化→鍍高溫鎳→鍍錫--磷酸三鈉漂白→鍍錫防變色劑處理

★ 槽液管理

1.氨基磺酸鎳：提供鎳離子來源，其濃度必須維持在適當的范圍，當帶出時須添加氨基磺酸鎳來補充鎳離子。

2.氯化鎳：可增加鍍液導電性、鍍層均一性及幫助陽極溶解。濃度較高時鍍層應力較大，須經常分析，并維持在適當范圍。

3.硼酸：避免電鍍操作時，PH值產生大幅變化。同時亦有較少高電流燒焦的作用，須經常分析并補充至適當的范圍。

6.PH值：應保持在2～3之間鍍液的穩定性，當需要降低PH值時請用氨基磺酸或硫酸，提高時請用碳酸鎳調整且碳酸鎳勿直接加入鍍浴，應以濾袋包裹放置過濾機中溶解。

7.溫度：建議保持鍍浴溫度于50～60℃，超過60℃會造成水分大量蒸發損失，且磺氨酸會水解成硫酸根，以及鍍層易脆。高溫鎳添加劑

9.哈氏槽試驗操作條件：