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TF-558豐滿型高整平酸銅光亮劑

TF-558豐滿型高整平酸銅光亮劑

  • 所屬分類:鍍銅添加劑
  • 瀏覽次數(shù):
  • 發(fā)布日期:2022-03-22
  • 產(chǎn)品概述
  • 性能特點
  • 技術(shù)參數(shù)

TF-558  滿  高 整 平 酸 銅 光 亮 劑(進口分裝

 

一、特點(超強走位、高填平)

1、在廣闊的電流密度范圍內(nèi),可快速獲得鏡面光亮及特高整平性的鍍層,且不產(chǎn)生針孔、麻點及發(fā)霧現(xiàn)象;

2、鍍層延展性能良好,內(nèi)應(yīng)力低,既適用于掛鍍也適用于滾鍍。

3558酸銅光亮劑填平好、走位優(yōu)良、鍍層豐滿、不產(chǎn)生白霧,是鋅合金電鍍、鋼鐵零件電鍍、塑膠電鍍、電鍍鎳、鉻最理想的打底鍍層。

4、不產(chǎn)生憎水膜,鍍酸銅后、鍍鎳、鍍鉻后,酸銅鍍層和亮鎳鍍層不產(chǎn)生脫皮現(xiàn)象。

二、使用方法

標(biāo)準(zhǔn)鍍液組成

               

滾鍍

掛鍍

硫酸銅CuSO4.5H2O                       (g/L)

80-120

180—240

硫酸(H2SO4

重量           (g/L)

180-220

45—90

容量           (ml/L)

100-120

25—50

氯離子

Cl-                   (mg /L) 

60-100

60—100

濃鹽酸調(diào)配     (ml/L)

0.15-0.4

0.150.4

TF-558A                                  (ml/L)  

0.2-0.4

0.40.8

TF-558B                                ml/L)              

0.4

0.2—0.6

TF-558MU                               (ml/L)  

10

612

使用條件

項    目

范  圍.條  件

陰極電流密度          (A/dm2

陽極電流密度           (A/dm2

                   ( V 

                     (℃)

        

        

        

   極   

1—6

1—3

2—6

15—30

空氣攪拌

不含活性炭的連續(xù)過濾

含磷銅

需要

三、添加劑及氯離子的功能及控制

TF558A(開缸及補給劑):

此光亮劑用作新配鍍液及日常生產(chǎn)的補充,其主要作用在低電流區(qū)有優(yōu)良的光亮度和整平性(低電流區(qū)調(diào)節(jié)劑)。按照鍍層的光亮度和整平性及操作溫度其消耗量不同,為80毫升/千安·小時。實際用量將根據(jù)各廠操作條件來確定。(添加劑的消耗量隨鍍液溫度升高而遞增)

TF558B(開缸及補給劑):

 此光亮劑用作新配鍍液及日常生產(chǎn)的補充,其主要作用能在高電流區(qū)有優(yōu)良的光亮度和整平性,擴大電流密度范圍,防止鍍層燒焦(高電流區(qū)調(diào)節(jié)劑)。按照鍍層的光亮度和整平性及操作溫度其消耗量不同,為80毫升/千安·小時。實際用量將根據(jù)各廠操作條件來確定。(添加劑的消耗量隨鍍液溫度升高而遞增)。

TF558MU(開缸劑):

只有在鍍液開缸時及活性炭大處理后及具體生產(chǎn)中鍍液帶出損失時使用,開缸劑不足時,會令鍍層的高中電流密度區(qū)產(chǎn)生條紋狀沉積;開缸劑過多可能對鍍層結(jié)合力產(chǎn)生影響。TF558MU可以取代部份TF558B用量,使鍍液具有更好的分散性能。消耗量為80毫升/千安·小時。實際用量將根據(jù)各廠操作條件來確定。(添加劑的消耗量隨鍍液溫度升高而遞增)。

★氯離子:

過多過少的氯離子都會影響鍍層的光澤和整平性。理想濃度范圍為0.080.1/升。請先分析當(dāng)?shù)厮|(zhì)中的氯離子含量,再調(diào)整到理想范圍內(nèi)。必要時要用純水配制。當(dāng)氯離子過少時會出現(xiàn)樹枝條紋,過多時影響低電流區(qū)光亮度及整平性。

除氯方法:

盡量使用純度較高的分析級鋅粉。

添加鋅粉時會產(chǎn)生氣體氫,請注意防火及使用排氣設(shè)施。

(1) 液移至預(yù)備槽;

(2) 液溫保持在30℃左右;

3)加入鋅粉的量是根據(jù)所想除去氯的量而定,鋅粉用水調(diào)至糊狀邊攪拌邊加入,鋅粉1g可以去除約50ppm氯離子;

    (4)攪拌30分鐘;

    (5)加入5g/L活性炭,攪拌3小時;

    (6)鍍液靜止后,通過過濾器返回至原來鍍槽。

四、附錄

不良對策參照表

不良原因

燒焦

低電流區(qū)不亮

整平性光亮不足

麻點

鍍層粗糙

漏鍍

結(jié)合力差

TF—558B不足

O





 O


TF—558A不足


O

O

 O

 O



TF—558MU不足


O






TF—558B過多



 O

O 

 O



TF—558A過多

O





O

O

TF—558MU過多



 O




O

基礎(chǔ)液濃度過低

O







鍍液污染


O

O

O


O

O

攪拌不正確

O



O




氯離子過多

O


O





氯離子過少

O


O





槽液溫度過低

O







槽液溫度過高


O






固體雜質(zhì)





O



清洗水質(zhì)污染







O

酸性活化不良







O


酸銅光亮劑,電鍍添加劑,鍍銅添加劑

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